Cobalt silicide

Chemical formula: CoSi2

Molecular weight: 115.104

CAS number: 12017-12-8

EINECS number: 234-616-8

Density: 5.3g/cm3

Melting point: 1277 ℃

Lattice constant: a=0.535nm

Crystal system: Cubic crystal system

Appearance: Gray silicide ceramic powder

Solubility: insoluble in water

Nature and stability: If used and stored according to specifications, it will not decompose. CoSi2 can react with

 hot hydrochloric acid, soluble in hydrochloric acid but insoluble in sulfuric acid. It can be corroded by aqua regia,

 concentrated nitric acid, strong alkaline solutions, and molten hydroxide and carbonate bases. It can undergo

 chemical reactions with hydrogen sulfide, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, fluorine, chlorine, etc.

Synthesis method:
Mix cobalt powder and silicon powder evenly according to the chemical composition ratio of CoSi2, melt them 

under air isolation conditions, and keep them at a temperature of 1150 ℃ for 100 hours to fully homogenize 

them. The product is nearly a single phase of CoSi2.
Purpose: Cobalt silicide powder has the characteristics of low resistivity and good thermal stability, and is mainly

 used for large-scale integrated circuits. In addition, cobalt silicide has a crystal structure similar to silicon, which 

allows for the formation of epitaxial CoSi2/Si structures on silicon substrates,To study the interface characteristics

 of epitaxial metal silicon. Cobalt silicide (Cosix) is a widely used material forthe connection between metals and 

semiconductors. It works as an inter connect betweenthe base electrode of semiconductors and metal wires 

in devices.Storage method: Store in a dry and cool environment, not exposed to air, to prevent oxidation and 

aggregation caused by moisture, which may affect dispersion performance and usage effect.